US
UK
第二種情況是各向同性蝕刻,也就是我們所說的純化學蝕刻,在這種情況下,下切深度等於 X 深度。
好吧,我們來給 X 選擇性下個定義。
它們往往是各向同性的。
它的蝕刻速度比濺射快得多,但很多時候我們需要的不是各向同性。
CF4 化合物可以添加或不添加 CHF3,也可以添加氫。
在低壓條件下,我們通常不會加入氧氣,而是加入氫氣或碳。
它消除了破壞,是以沒有離子或電子轟擊,沒有充電,沒有紫外線,也沒有 X 方向性,在行動開始之前,它將是完全各向同性的。